研究開発

研究開発システム

熱CVD装置(材料成長反応炉)

この装置は、管状電気炉に炉心管をセットし、炉心管内を外部雰囲気から隔離することによって、炉心管内を任意の雰囲気にして使用する管状形雰囲気炉です。

cvd
■炉体部
常用温度 850℃〜1500℃
最高温度 1000℃〜1600℃
炉内寸法 φ140xL400mm(炉口寸法x加熱部寸法)
炉心管寸法 φ120xL400mm(加熱部寸法)SUS-310S
ヒーター 3回路 発熱体(SSS)
■制御パネル 炉台形パネル、背面はめ込み扉、キャスター付
■制御方式 プログラム制御、3ゾーン独立制御、温度記録
■塗装色 炉体部:耐熱シルバー 制御パネル:7.5Y 1/9
■ヒーター容量 3φ 7.0kw 定格容量:1ゾーン1φ200V2kw
3φ 7.0kw 定格容量:2ゾーン1φ200V2kw
3φ 7.0kw 定格容量:3ゾーン1φ200V2kw
■昇温速度 空炉にて850℃まで3時間(炉心管セット時)

DLC成膜装置

DLCとは?ダイヤモンド/ライク/カーボンの頭文字を取ってDLCと呼んでいます。
つまりダイヤモンドのような性質を持ったカーボン膜の意味です。
天然のダイヤモンドと非常によく似た結晶構造になっており、表面が非常に硬いなどの大きな性質をもっています
この性質を持って工業用材料や加工品など、更に新素材の誕生の期待が持たれています。

cvd
硬い SUSや超合金よりもずっと硬い
超低摩擦 非常に低摩擦係数で超潤滑性
耐摩耗性 非常に磨耗しにくく磨耗汚染が無い
耐食性 不活性で錆びない
絶縁性 10E+6〜10E+12Ω

ナノ結晶製造装置

この装置は、管状電気炉に炉心管をセットし、炉心管内を外部雰囲気から隔離することによって、炉心管内を任意の雰囲気にして使用する管状形雰囲気炉です。

cvd
■炉体部
常用温度 500℃
最高温度 1000℃
炉内寸法 φ180xL340mm(炉口寸法x加熱部寸法)
炉心管寸法 φ30xL800mm(加熱部寸法)石英
ヒーター 3回路 発熱体(SSS)
■制御方式 プログラム制御、3ゾーン独立制御、温度記録
■ヒーター容量 3φ 7.0kw 定格容量:1ゾーン1φ200V2kw
3φ 7.0kw 定格容量:2ゾーン1φ200V2kw
3φ 7.0kw 定格容量:3ゾーン1φ200V2kw
■昇温速度 空炉にて500℃まで3時間(炉心管セット時)